在X射线波段，各种材料的折射率都近似等于1，无法构造出类似于可见光波段的"透镜"，只能采用波带片来实现对X射线的聚焦。为了满足X射线光学的需求，微聚焦波带片的最外环必须是大高宽比的深亚微米、纳米圆环，因此这种波带片的制作难度非常大。

中科院微电子研究所在中国科学技术大学国家同步辐射实验室光刻站上利用X射线光刻技术成功研制出最外环宽度为150nm的高线密度钛特征线微聚焦波带片，并实现了波带片图形特征尺寸的精确控制，其高宽比达到6.7:1。该研究结果充分证明了在国家同步辐射实验室光刻站上进行大高宽比深亚微米、纳米X射线光刻的可行性。（图为暗场150nmFZP的全貌图）