本设备由超导磁体、磁控合成装备、超快飞秒激光器、多功能样品台、多功能光路、光谱探测系统等组合而成。

基本参数：磁场强度0~8 T（100 mm室温孔径）；磁场强度0~7 T（2.54 mm低温口径）；磁控水热合成温度~200^oC；光谱测量温度范围4.2~300 K；光源脉宽100 fs；波长300~1600 nm；

基本功能：磁场下的材料制备（水热反应、室温溶液反应等）；磁光Kerr谱(MOKE)；磁二次谐波谱(MSHG)；磁场下光致发光谱(MPL)。[注:以上四个功能所适用的碰场、温度、光谱范围有所不同]。

适用样品：微纳功能材料（磁控合成）；单晶、薄膜(磁光谱)