2005年6月报道：在本轮专用光运行期间，BSRF-X射线光刻站与有关单位合作研制成功了两种类型的高线密度钛特征线波带片。
各种材料的折射率在X射线波段均接近或小于1，常规的折射光学元件将无法使用，必须采用高线密度的波带片元件来实现X射线波段的聚焦、成像和色散。因受制于微细加工技术能力，100多年来波带片的应用一直受到极大限制。近二十年来得益于集成电路微细加工技术的迅猛发展，国际上许多新概念X射线衍射光学元件不断被提出和实现。
BSRF-X射线光刻站在解决一些长期困扰该技术发展和应用的技术难题，如高线密度波带片微光刻图形数据处理、复杂图形的X射线掩模电子束光刻、深亚微米图形电镀、X射线曝光等问题的基础上，采取了有效技术措施，成功实现了波带片图形特征尺寸精确控制，最终研制成功两类高线密度钛特征线波带片。这将为X射线诊断技术的研究和发展提供有力支持，并能为光子晶体器件、分子电子器件等纳电子器件研究提供优质的技术服务。
